DRAM 기술 중국 유출한 반도체 연구원, 항소심에서 징역 5년
“퇴직 직전 4일 동안 4,000쪽이 넘는 반도체 기술 문서를 출력하고 쇼핑백을 들고 퇴근한 사진 한 장이 결정적 증거가 되어 징역 5년을 선고받을 수 있을까요?” – 기술 중국 유출 분쟁DRAM 제품 공정 기술 등 국가핵심기술이자 영업비밀에 해당하는 반도체 관련 문서를 중국 기업으로 이직하기 위해 유출한 피고인 A에게 원심을 파기하고 징역 5년, 벌금 3,000만 원을 선고하였습니다(수원고등법원 2025. … DRAM 기술 중국 유출한 반도체 연구원, 항소심에서 징역 5년 계속 읽기
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